115、磁控溅射卷绕镀膜设备

学霸养成

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2021-09-15

【技术领域】高端装备制造

【技术发布单位】国科遂宁科技成果转化中心

【技术概述】。该产品成果是国内首套自主研制的大型柔性薄膜磁控卷绕镀膜设备,打破了General,Hauzer、Leybold、AppliedFilms、VonArdenne、神钢等国外企业长期在大型柔性薄膜磁控卷绕镀膜设备领域的垄断地位,填补了我国在自主大型柔性薄膜磁控卷绕镀膜设备领域的空白。产品突破关键技术及工艺,既能满足科研院所多品种,小批量产品研制需求,又能适用于规模化生产;可实现更多工艺调节方式,具有高精度、高稳定性、自动化程度高等特点。实际运用具有镀膜厚度均匀、牢固致密、附着力强等效果,并且具有镀膜过程控制性能好、效率高、运行稳定可靠等特点,综合技术水平达行业先进。

【技术特点】该磁控溅射镀膜制备本身特点:(1)工艺调节能力强,交叉污染风险小,适用范畴广;(2)柔性基材卷绕运动及张力控制能力强;(3)大幅面柔性基材镀膜性能有保证;(4)控制稳定性、灵活性及功能拓展性强,独具的工艺仿真系统;(5)柔性基材预处理能力强;(6)设备运行振动及噪音控制效果好。可镀制的薄膜具有以下特点:(1)膜厚可控性和重复性好,可通过控制靶电流精确控制膜层厚度;(2)薄膜和基片附着强度高;(3)制膜范围广:金属、半导体、电介质、多元素的化合物或混合物均可制成靶材;可使用不同材料同时溅射制成混合膜或化合物膜,也可次序溅射制成多层膜;可在溅射时通入反应气体,使其与靶材粒子发生化学反应从而制备完全不同的薄膜;可制备金属膜、半导体膜、绝缘膜、硬质膜、耐热膜、耐腐蚀膜、超导膜、磁性膜、光学膜等各种特殊性能薄膜;(4)组份基本不变。

【专利状态】ZL201410542081.8

【适用范围】可广泛地应用于装饰、光电、半导体、新型材料、航空航天等领域。

【合作方式】面议

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